Chimie des Interactions Plasma-Surface
Les activités de recherche du laboratoire de Chimie des Interactions Plasma-Surface (ChIPS) s’inscrivent dans le contexte de l’utilisation de plasmas froids pour le traitement des matériaux. Ces technologies, d’ores et déjà implantées industriellement (secteurs verrier et de l’outillage, microélectronique,…), se profilent, au vu de leur faible impact environnemental, de leur robustesse et de leur flexibilité, comme incontournables dans le futur.
Dans ce contexte, nos activités se développent tant à l’échelle orientée que fondamentale et souvent en partenariat national et international. Dans tous les cas, notre objectif est de contribuer à une meilleure compréhension des phénomènes mis en jeux lors de l’interaction entre un plasma froid et la surface d’un matériau.
Pour ce faire, nous développons notre savoir-faire dans les domaines (i) de la mise au point de nouvelles sources plasma, (ii) de l’analyse physico-chimique des plasmas via des techniques de diagnostic pointues, (iii) de la synthèse de (nouveaux) matériaux sous forme de films minces (organique et inorganique) et de la fonctionnalisation de surface des matériaux (y compris de nano-matériaux) et (iv) du traitement de gaz par une approche couplée plasma-catalyse (valorisation du CO2, activation de l’N2).
L’ensemble de ces activités est supporté par des caractérisations fines de la chimie, de la morphologie et de la microstructure des surfaces traitées via l’utilisation d’outils d’analyse performants tels que l’XPS, Tof-SIMS, TEM, SEM, XRD, techniques synchrotron,…
De manière générale, notre stratégie expérimentale consiste à corréler les caractéristiques du plasma et les propriétés des matériaux traités de manière à comprendre les phénomènes sous-jacents pour, in fine, améliorer les propriétés de ces surfaces.
Nous remercions nos partenaires pour leur soutien
